36 части от оборудване MOCVD с 4 инча графитна основа

Кратко описание:

Въвеждане и употреба на продукта: Поставяне на 36 броя 4-часов субстрат, използван за отглеждане на LED със синьо-зелен епитаксиален филм

Разположение на устройството на продукта: в реакционната камера, в директен контакт с пластината

Основни продукти надолу по веригата: LED чипове

Основен краен пазар: LED


Подробности за продукта

Продуктови етикети

Описание

Нашата компания предоставяSiC покритиеобработват услуги чрез CVD метод върху повърхността на графит, керамика и други материали, така че специални газове, съдържащи въглерод и силиций, реагират при висока температура, за да се получат високочисти SiC молекули, молекули, отложени върху повърхността на покритите материали, образувайкиSIC защитен слой.

 

Графитна основа--36

Основни характеристики

1. Устойчивост на окисление при висока температура:
устойчивостта на окисление е все още много добра, когато температурата е по-висока от 1600 C.
2. Висока чистота: направено чрез химическо отлагане на пари при високотемпературно хлориране.
3. Устойчивост на ерозия: висока твърдост, компактна повърхност, фини частици.
4. Устойчивост на корозия: киселина, основи, сол и органични реагенти.

Основни спецификации на CVD-SIC покритие

SiC-CVD свойства
Кристална структура FCC β фаза
Плътност g/cm³ 3.21
твърдост Твърдост по Викерс 2500
Размер на зърното μm 2~10
Химическа чистота % 99.99995
Топлинен капацитет J·kg-1 ·K-1 640
Температура на сублимация 2700
Felexural Сила MPa (RT 4 точки) 415
Модулът на Йънг Gpa (4pt завой, 1300 ℃) 430
Термично разширение (CTE) 10-6K-1 4.5
Топлопроводимост (W/mK) 300
Semicera Работно място
Работно място Semicera 2
Оборудване машина
CNN обработка, химическо почистване, CVD покритие
Semicera Ware House
Нашата услуга

  • Предишен:
  • следващ: