Semicera предоставя специализирани покрития от танталов карбид (TaC) за различни компоненти и носители.Semicera Водещият процес на нанасяне на покритие Semicera позволява покритията от танталов карбид (TaC) да постигнат висока чистота, висока температурна стабилност и висока химическа толерантност, подобрявайки качеството на продукта на SIC/GAN кристали и EPI слоеве (TaC ток с графитено покритие) и удължаване на живота на ключови компоненти на реактора. Използването на покритие от TaC от танталов карбид е за решаване на проблема с ръбовете и подобряване на качеството на растежа на кристалите, а Semicera има пробив в разрешаването на технологията за покритие от танталов карбид (CVD), достигайки международно напреднало ниво.
След години на развитие Semicera завладя технологията наCVD TaCсъс съвместните усилия на отдела за научноизследователска и развойна дейност. Лесно се появяват дефекти в процеса на растеж на SiC пластини, но след употребаTaC, разликата е съществена. По-долу е сравнение на вафли със и без TaC, както и части от Semicera за монокристален растеж
със и без TaC
След използване на TaC (вдясно)
В допълнение, експлоатационният живот на продуктите с TaC покритие на Semicera е по-дълъг и по-устойчив на висока температура от този на SiC покритието. След дълго време на данни от лабораторни измервания, нашият TaC може да работи дълго време при максимум 2300 градуса по Целзий. Ето някои от нашите проби:
(a) Схематична диаграма на SiC устройство за отглеждане на монокристален слитък чрез PVT метод (b) Горна зародишна скоба с покритие от TaC (включително SiC зародиш) (c) Графитен водещ пръстен с покритие от TAC
