Описание
Носителите на пластини Semicorex със SiC покритие осигуряват изключителна термична стабилност и проводимост, осигурявайки равномерно разпределение на топлината по време на CVD процеси, което е от решаващо значение за висококачествения тънък филм и характеристиките на покритието.
Ключови характеристики:
1. Изключителна термична стабилност и проводимостНашите носители за пластини с покритие от SiC се отличават с поддържането на стабилни и постоянни температури, което е от решаващо значение за CVD процесите. Това осигурява равномерно разпределение на топлината, което води до превъзходно качество на тънък слой и покритие.
2. Прецизно производствоВсеки носител за пластини е произведен по точни стандарти, осигуряващи еднаква дебелина и гладкост на повърхността. Тази прецизност е жизненоважна за постигане на постоянни скорости на отлагане и свойства на филма в множество пластини, подобрявайки цялостното качество на производството.
3. Бариера срещу примесиSiC покритието действа като непропусклива бариера, предотвратявайки дифузията на примеси от сензора в пластината. Това минимизира рисковете от замърсяване, което е критично за производството на полупроводникови устройства с висока чистота.
4. Издръжливост и ефективност на разходитеЗдравата конструкция и SiC покритието повишават издръжливостта на носителите на пластини, като намаляват честотата на смяна на фиксатора. Това води до по-ниски разходи за поддръжка и минимизиране на времето за престой, повишавайки ефективността на операциите по производство на полупроводници.
5. Опции за персонализиранеНосачите за пластини Semicorex със SiC покритие могат да бъдат персонализирани, за да отговарят на специфични изисквания на процеса, включително вариации в размера, формата и дебелината на покритието. Тази гъвкавост позволява оптимизирането на приемника, за да отговаря на уникалните изисквания на различните процеси на производство на полупроводници. Опциите за персонализиране позволяват разработването на дизайни на ток, пригодени за специализирани приложения, като например производство в голям обем или научноизследователска и развойна дейност, осигурявайки оптимална производителност за конкретни случаи на употреба.
Приложения:
Носителите за вафли Semicera със SiC покритие са идеално подходящи за:
• Епитаксиален растеж на полупроводникови материали
• Процеси на химическо отлагане на газове (CVD).
• Производство на висококачествени полупроводникови пластини
• Разширени приложения за производство на полупроводници
Технически спецификации:
