Въведение в CVD TaC покритие:
CVD TaC покритие е технология, която използва химическо отлагане на пари за нанасяне на покритие от танталов карбид (TaC) върху повърхността на субстрата. Танталовият карбид е високоефективен керамичен материал с отлични механични и химични свойства. CVD процесът генерира равномерен TaC филм върху повърхността на субстрата чрез газова реакция.
Основни характеристики:
Отлична твърдост и устойчивост на износване: Танталовият карбид има изключително висока твърдост и CVD TaC покритието може значително да подобри устойчивостта на износване на субстрата. Това прави покритието идеално за приложения в среда с високо износване, като режещи инструменти и форми.
Стабилност при висока температура: TaC покритията защитават критичните компоненти на пещта и реактора при температури до 2200°C, демонстрирайки добра стабилност. Поддържа химическа и механична стабилност при екстремни температурни условия, което го прави подходящ за високотемпературна обработка и приложения в среда с висока температура.
Отлична химическа стабилност: Танталовият карбид има силна устойчивост на корозия към повечето киселини и основи, а CVD TaC покритието може ефективно да предотврати повреда на субстрата в корозивни среди.
Висока точка на топене: Танталовият карбид има висока точка на топене (приблизително 3880°C), което позволява CVD TaC покритието да се използва при условия на екстремни високи температури, без да се топи или разгражда.
Отлична топлопроводимост: TaC покритието има висока топлопроводимост, което помага за ефективното разсейване на топлината при високотемпературни процеси и предотвратява локалното прегряване.
Потенциални приложения:
• Компоненти на епитаксиален CVD реактор от галиев нитрид (GaN) и силициев карбид, включително носители за пластини, сателитни антени, душове, тавани и фиксатори
• Компоненти за растеж на кристали от силициев карбид, галиев нитрид и алуминиев нитрид (AlN), включително тигели, зародишни държачи, водещи пръстени и филтри
• Индустриални компоненти, включително съпротивителни нагревателни елементи, инжекционни дюзи, маскиращи пръстени и приспособления за спояване
Характеристики на приложението:
• Температурно стабилен над 2000°C, позволяващ работа при екстремни температури
• Устойчив на водород (Hz), амоняк (NH3), моносилан (SiH4) и силиций (Si), осигурявайки защита в сурови химически среди
• Неговата устойчивост на термичен удар позволява по-бързи работни цикли
• Графитът има силна адхезия, осигуряваща дълъг експлоатационен живот и без разслояване на покритието.
• Свръхвисока чистота за елиминиране на ненужни примеси или замърсители
• Конформно покритие на покритието до тесни толеранси на размерите
Технически спецификации:
Получаване на плътни покрития от танталов карбид чрез CVD:
TAC покритие с висока кристалност и отлична еднородност:
Технически параметри на CVD TAC COATING_Semicera:
Горните са типични стойности.
